应杨颖教授邀请，在“高性能压电驱动系统关键技术”创新引智基地的支持下，来自韩国岭南大学的Jungho Ryu教授和韩国材料科学院GunHwan Lee博士于2019年1月7-9日访问了机械结构力学及控制国家重点实验室。

访问期间，Jungho Ryu教授和GunHwan Lee博士分别为我所师生做了题为“在磁致伸缩金属基板上生长压电厚膜的光辅助热处理工艺（Photon Associated Thermal Processing for Piezoelectric Thick Films on Magnetostrictive Metal Substrate）”和“气浮沉积技术在工业领域的应用及气浮沉积设备的设计（Industrial Applications of AD Technology & System Design）”的学术报告。报告介绍了气浮沉积技术(Aerosol Deposition或Aerosol Jet Printing)，在室温和低真空环境下，利用速气流吹浮、雾化并加速超细喷涂粒子，然后高速沉积到洁净的基体表面形成涂层，该技术可在多种基材上（如玻璃、有机薄膜、金属等）生长压电材料厚膜，这种厚膜在许多领域中得到了探索性应用，特别是在MEMES器件、微型能量供给和回收器件的研发和应用中，为重点实验室实现压电作动器件的微小型化提供了帮助。王一平教授主持了报告会，会后重点实验室师生与Jungho Ryu教授和GunHwan Lee博士就AD技术及设备问题进行了深入讨论。

访问期间，Jungho Ryu教授和GunHwan Lee博士在王一平教授的带领下参观了重点实验室以及精密驱动与振动利用学术部，并与师生就压电厚膜在超声电机、压电作动器件及微机电系统中的应用进行了深入的交流。

Jungho Ryu教授报告现场

GunHwan Lee博士报告现场

参观精密驱动与振动利用学术部

与师生合影